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梓夢-《中國藥典》0982 (光散射法)20 版與 25 版對比以及未來發(fā)展趨勢

更新時間:2025-09-15   點擊次數(shù):784次

梓夢-《中國藥典》0982 章節(jié)(光散射法)20 版與 25 版對比以及未來發(fā)展趨勢

對比維度

中國藥典2020年版

25版中國藥典(公示稿)

適用范圍

原理闡述

1. 測量范圍:0.02-3500μm
2. 原理:僅說明散射光能量分布與顆粒大小相關(guān),依據(jù)米氏散射理論和弗朗霍夫近似理論計算粒度分布,未明確適用對象的具體類型
3. 未引入 “散射圖樣” 概念,未強調(diào)顆粒形狀、數(shù)量對測量的影響,無光學(xué)模型選擇標(biāo)準(zhǔn)

1. 測量范圍:常規(guī) 0.1-3000μm,特殊設(shè)計及輔助條件下可擴展至 0.1μm 以下和 3mm 以上
2. 原理:引入 “散射圖樣”(散射光強度分布圖)概念強調(diào)散射圖樣與顆粒粒徑、形狀、數(shù)量及光學(xué)特性相關(guān),依據(jù)米氏散射理論或弗朗霍夫近似理論計算粒度分布
3. 明確適用對象:粉末、霧滴、氣溶膠、混懸液、乳狀液、溶液中的氣泡等兩相體系中顆粒
4. 新增光學(xué)模型選擇標(biāo)準(zhǔn):根據(jù)粒度范圍、顆粒光學(xué)特性及用途選擇,如粒徑<10μm、有色物質(zhì)、乳狀液需用米氏理論,粒徑>50μm 且相對折射率>1.2 時兩種理論均適用

儀器要求

1. 基礎(chǔ)要求:激光強度穩(wěn)定,可自動扣除電子背景和光學(xué)背景干擾
2. 結(jié)構(gòu)組成:未提及儀器具體結(jié)構(gòu)(光源、光束處理單元等)及光路設(shè)計
3. 校準(zhǔn)相關(guān):
- 用 “標(biāo)準(zhǔn)粒子” 的粒徑分布特征值d(0.1)、d(0.5)、d(0.9)評價儀器
- 未要求校準(zhǔn)粒子的分布寬度
- 未提及環(huán)境溫度、光路性能等附加要求

1. 基礎(chǔ)要求:同 20 版(激光強度穩(wěn)定、自動扣除背景干擾)
2. 結(jié)構(gòu)組成:明確儀器由光源、光束處理單元、傅里葉透鏡、進樣系統(tǒng)、檢測器、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)構(gòu)成;新增兩種光路設(shè)計(傅里葉光路、反傅里葉光路)及對應(yīng)原理圖,說明兩種光路的樣品池位置、光程特點及適用場景
3. 校準(zhǔn)相關(guān):
- 用標(biāo)準(zhǔn)粒子的D10、D50、D90(與 20 版d(0.1)、d(0.5)、d(0.9)含義一致)校準(zhǔn)
- 要求校準(zhǔn)粒子粒徑分布寬度(D90/D10)在 1.5-10 之間
- 隱含對光路性能的要求(如傅里葉光路需保證樣品在透鏡有效工作距離內(nèi)的合理光程)

測定方法

1.       濕法測定:
- 適用對象:混懸供試品或不溶于分散介質(zhì)的供試品
- 分散介質(zhì):未細(xì)化選擇要求,僅提及可加化學(xué)分散劑 /

表面活性劑
- 遮光度:8%-20%,先進儀器下限可至 0.2%
- 需測量體系 ζ 電位以保證分散穩(wěn)定性
2. 干法測定:
- 適用對象:水溶性或無合適分散介質(zhì)的固態(tài)供試品
- 遮光度:0.5%-5%
- 提及化學(xué)原料藥需用噴射式分散器,加金屬小球輔助分散
3. 通用要求:未規(guī)定測量次數(shù),未說明遮光度異常(過高 / 過低)的影響

1. 濕法測定:
- 適用對象同 20 版(混懸供試品優(yōu)先)
- 分散介質(zhì):明確需選擇無顆粒物、無氣泡的介質(zhì)(水或其他溶劑),細(xì)化攪拌速度、超聲功率 / 時間等分散參數(shù)的優(yōu)化要求
- 遮光度:3%-20%(下限降至 3%)
- 未強制要求測量 ζ 電位,聚焦通過參數(shù)優(yōu)化實現(xiàn)分散穩(wěn)定
2. 干法測定:
- 適用對象:同 20 版(無合適分散介質(zhì)的固態(tài)供試品可選用)
- 遮光度:0.5%-15%(上限提升至 15%)
- 明確需調(diào)節(jié)樣品出口狹縫寬度、進樣速率、分散氣壓(0-0.4MPa),未強調(diào)金屬小球的使用
3. 通用要求:
- 新增 “方法開發(fā)” 要求,需優(yōu)化取樣、分散、測量參數(shù)
- 規(guī)定測量次數(shù)不少于 3 次,測量時間以結(jié)果穩(wěn)定為宜
- 明確遮光度異常影響:過低降低信噪比和精密度,過高導(dǎo)致分散困難或多重散射

方法驗證與結(jié)果報告

1. 方法驗證:未提及任何驗證指標(biāo)及要求
2. 結(jié)果報告:未明確報告形式及需記錄的信息,僅隱含需呈現(xiàn)粒度分布數(shù)據(jù)

1. 方法驗證:新增驗證要求,聚焦兩項核心指標(biāo):
- 重復(fù)性:平行測定 6 次,D50的 RSD≤10%(粒徑<10μm 時≤20%);D10、D90的 RSD≤15%(粒徑<10μm 時≤30%)
- 耐用性:考察分散因素(干濕法參數(shù))、光學(xué)參數(shù)及不同儀器的差異,可通過內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)樣品校準(zhǔn)儀器減少數(shù)據(jù)偏差
2. 結(jié)果報告:
- 明確報告形式:以累積體積分布粒徑(D10、D50、D90)或體積平均粒徑(D(4,3))呈現(xiàn)
- 需詳細(xì)記錄:儀器信息、樣品信息、制備 / 分散過程及參數(shù)、結(jié)果計算方法、方法驗證數(shù)據(jù)

未來發(fā)展趨勢

1.                      技術(shù)創(chuàng)新與精度提升:儀器性能會持續(xù)優(yōu)化,光學(xué)模型、數(shù)據(jù)處理算法不斷改進,提高測量精準(zhǔn)度和靈敏度,以滿足藥品研發(fā)和質(zhì)量控制更高要求。

2.                      標(biāo)準(zhǔn)化與規(guī)范化加強:藥典對光散射法規(guī)定不斷細(xì)化完善,未來將緊跟國際標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)發(fā)展,提升方法的標(biāo)準(zhǔn)化和規(guī)范化程度,減少實驗室間差異。從 20 版到 25 版對適用范圍、儀器要求、測定方法等方面的修訂可看出這一趨勢 。

3.                      智能化發(fā)展:未來儀器可能具備強大智能化功能,自動優(yōu)化測量參數(shù)、實時監(jiān)測和調(diào)整測量過程、智能分析和報告結(jié)果,減少人為操作影響,提高分析可靠性和效率。

 

設(shè)備選擇趨勢

1.                      國產(chǎn)設(shè)備發(fā)展態(tài)勢良好:中國在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)展迅速,形成了一批有國際競爭力的企業(yè)和品牌,產(chǎn)品性能達(dá)到國際水平,部分技術(shù)實現(xiàn)突破,在半導(dǎo)體材料、生物醫(yī)藥等關(guān)鍵領(lǐng)域市場占使用率突破 30%。國產(chǎn)激光粒度儀在 0.1 - 2000μm 量程范圍內(nèi)達(dá)到先進水平

2.                      智能化與自動化設(shè)備更受青睞:隨著實驗室自動化、智能化水平的提升,具備自動進樣、自動清洗、自動校準(zhǔn)、數(shù)據(jù)自動采集與分析、遠(yuǎn)程控制與監(jiān)控等功能的智能化設(shè)備將成為設(shè)備選擇的重要方向。這類設(shè)備能有效減少人工干預(yù),降低人為誤差,實現(xiàn)無人值守或少人值守的高效檢測,尤其適合大規(guī)模、高通量的樣品分析場景。

3.                      品牌與服務(wù)保障影響決策權(quán)重:用戶在選擇設(shè)備時,除了關(guān)注設(shè)備本身的性能和價格外,品牌的名氣、市場口碑以及廠家提供的售后服務(wù)保障(如安裝調(diào)試、技術(shù)培訓(xùn)、維修保養(yǎng)、零部件供應(yīng)等)將占據(jù)越來越重要的地位。具有良好品牌信譽和完善服務(wù)體系的設(shè)備供應(yīng)商,能為用戶提供更可靠的設(shè)備使用保障和及時的技術(shù)支持,從而在市場競爭中獲得優(yōu)勢。

4.                      綜合因素影響選擇:未來設(shè)備選擇會綜合多方面因素,如設(shè)備性能、價格、售后等。國產(chǎn)設(shè)備性價比高、更適配國內(nèi)需求;進口設(shè)備在技術(shù)和穩(wěn)定性上有優(yōu)勢。隨著國產(chǎn)設(shè)備在核心技術(shù)研發(fā)上的不斷突破和質(zhì)量體系的日益完善,其在中市場的競爭力也將持續(xù)增強,未來設(shè)備選擇的二元對立格局或?qū)⒅饾u向多元化、動態(tài)化的平衡態(tài)勢發(fā)展。

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